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上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 (栅网离子源) KDC40. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.
离子束流: >100 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 (Typical flow): 2-10 sccm.
加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.
离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.
无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计.
技术参数：
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离子源型号 |
离子源 KDC 40 |
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Discharge |
DC 热离子 |
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离子束流 |
>100 mA |
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离子动能 |
100-1200 V |
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栅极直径 |
4 cm Φ |
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离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
2-10 sccm |
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通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型压力 |
< 0.5m Torr |
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长度 |
17.1 cm |
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直径 |
9 cm |
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中和器 |
灯丝 |
应用领域：
1. 溅镀和蒸发镀膜 PC
2. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
3. 表面改性, 激活 SM
4. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD
5. 离子蚀刻 IBE
应用案例:
1. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)
2. 伯东 KRI Gridded 考夫曼离子源用于离子束抛光工艺
