混气管式PECVD系统

KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混气管式PECVD系统，由KJ-T1200单温区管式炉、真空系统、质子流量计、射频电源系统系统组成。

  混气管式PECVD系统是为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，环境温度在100-300℃，但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解、离解和离化，从而大大提高了反应物的活性，这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上，发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜，因此这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）。



设备可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜，并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层、高端装饰等领域。

多晶纤维炉膛，节能耐腐蚀

重量轻、升温速度快、节能、省时、耐高温、耐腐蚀、保温性好，能满足何种快速烧结的要求。

炉管采用高纯度石英玻璃材料工艺加工

具有极低的热膨胀系数、耐高温、化学稳定性好、电绝缘性好。

双层内胆炉壳，配有风冷系统，快速升降温

整个炉体采用双层内胆式结构，中间有气隙隔离，即使炉膛温度高达1200℃，炉体表面仍然可以安全触摸无滚烫感觉。

法兰采用双环密封技术

有效的提高了法兰的气氛性，法兰上装有多种接头，可接电阻真空计、真空波纹管并能做成容易撤卸的铰链式。

内嵌式合金电热丝，升温快，寿命长

加热元件采用优质内嵌式合金电热丝，发热效率高、耐高温、抗氧化、耐腐蚀、升温快、寿命长、高温变形小、安装维修方便，使用寿命长。

微电脑PID控制器，操作简便

操作简便，控温精确、可靠、安全多段可编程控制，可以简化复杂的试验过程，真正实现自动控制和运行。
炉体配有：输出电压和输出电流监测表，炉子加热状态一目了然。

真空系统采用高真空分子泵组，性能卓越

性能可靠：整体型复合转子，强度高、性能稳定；
洁净无油：采用脂润滑精密陶瓷轴承，无油蒸汽污染。