K650X三靶大样品室溅射镀膜仪

K650X具有三个磁控管，可对大样品进行镀膜，样品台可旋转， 保证均匀沉积。这种方法可利用标准靶面，不需要特别的大靶面。 这种三头靶面系统特别适用于半导体晶片工业。 本系统磁电管靶使用低电压，提高了效率，并且能得到非常精细 的颗粒，由于是冷溅射，所以无需冷却靶面或样品台。 仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶（或用户选择），提供最 适合的性能价格比。 功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计，最大的“up-time”， 这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求。 溅射参数可被预先设置，包括气体放气针阀，此阀为电磁阀，具有自动控制，可精确及重复膜厚沉积。 溅射头互锁，系统可容易选配K250镀碳附件。本仪器为全自动操作，可控制独立的真空泵。 K650T Turbo Unit与上面相同，但具有涡轮分子泵，抽速60升/秒具有更高及清洁的真空。 特点 ● 三个靶面溅射系统 ● 全自动控制 ● 低电压溅射 ● 高分辨率精细涂层(金颗粒可达2 nm) ● 具有倾斜装置的特殊旋转台 ● 均匀厚度沉积(扫描电镜一般厚度为 20nm 或200埃) ● 225 mm腔室直径 ● 可接膜厚监视器，实时监视镀层厚度 优点 ● 适合大样品，如晶圆 ● 易操作 ● 无需冷却样品台 ● 精确的再次涂层 ● 适合各种样品 ● 膜厚度重复性好 ● 容易装载或卸载大样品―最大到6英寸晶圆 ● 可预设沉积厚度 技术规格 仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H 重量：24公斤 工作腔室：硼硅酸盐玻璃 225mm Dia x 125mm H 基座： 110 mm直径x 115mm高 安全钟罩：聚碳酸酯 靶：3 x 60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶材) 旋转台：直径为155 mm，可调节 样品台：距离靶面40到50 mm 真空范围：ATM-1x10-2 mbar 溅射电流：0-100mA 沉积速率：0-20nm/分 溅射定时： 0-4 分钟 预设置针阀：控制氩 电源：230 伏 50Hz (8 amp max. including Pump)