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上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI霍尔离
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源eH 400低成本设计提供高离
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源eH 400尺寸和离
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2021-01-21 14:20
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源 eH1000
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源eH 1000高效气体利用,低成本设计提供高离
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电流,特别适合中型真空系
2021-01-21 14:14
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伯东企业(上海)有限公司
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源 eH2000
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI霍尔离
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源eH 2000特别适合大中型真空系统,带有水冷方式,低成本设计提供高离
子
2021-01-21 13:58
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美国 KRI 霍尔离
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源 eH3000
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源eH 3000最适合大型真空系统,与友厂大功率离
子
源对比, eH 3000是目前
2021-01-21 13:41
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伯东企业(上海)有限公司
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美国 KRI 考夫曼离
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源 KDC10
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI考夫曼离
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源KDC 10,宽束栅网离
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源,最小型号的离
子
源,离
子
束可选聚焦/ 平行/
2021-01-21 13:20
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美国 KRI 考夫曼离
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源 KDC40
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI考夫曼离
子
源(栅网离
子
源) KDC40.离
子
束可选聚焦/ 平行/ 散射.适用于已知的所有
2021-01-21 13:11
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伯东企业(上海)有限公司
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美国 KRI 考夫曼离
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源 KDC75
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI考夫曼离
子
源KDC75, 紧凑栅网离
子
源,离
子
束可选聚焦/ 平行/ 散射.离
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束流: 250
2021-01-21 13:07
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KRI 考夫曼离
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源 KDC100
上海伯东代理美国 KRI考夫曼离
子
源KDC 100, 属于中型规格栅网离
子
源.离
子
束可选聚焦/ 平行/ 散射.离
子
束流: 400 mA; 离
子
动能: 1
2021-01-21 13:02
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美国 KRI 考夫曼离
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源 KDC160
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI考夫曼离
子
源KDC 160. 属于栅网离
子
源, 离
子
束可选聚焦/ 平行/ 散射.适用于已知
2021-01-21 12:59
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美国 KRI 射频离
子
源 RFICP40
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI射频离
子
源RFICP 40,离
子
束可选聚焦/ 平行/ 散射.KRI 射频离
子
源 RFICP 40 属于
2021-01-21 12:55
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美国 KRI 射频离
子
源 RFICP100
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI射频离
子
源RFICP 100,离
子
束可选聚焦, 平行, 散射.KRI 射频离
子
源属于大面积射
2021-01-21 11:45
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美国 KRI 射频离
子
源 RFICP140
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI射频离
子
源RFICP 140 是一款紧凑的有栅网离
子
源, 离
子
束可选聚焦, 平行, 散射.
2021-01-21 11:40
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伯东企业(上海)有限公司
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美国 KRI 射频离
子
源 RFICP220
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI射频离
子
源RFICP 220, 大面积高能量栅网离
子
源.离
子
束流: 800 mA; 离
子
动能: 10
2021-01-21 11:31
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美国 KRI 射频离
子
源 RFICP380
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI离
子
源, 100%原厂原装进口.KRI 射频离
子
源 RFICP 380 属于大面积射频离
子
源,离
2021-01-21 11:27
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Hakuto 全自动离
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蚀刻机MEL3100 具有良好的均匀性和高蚀刻率, 刻蚀均匀度: ±5%, 硅片 Si 蚀刻速率10nm/min, 具有高冷却效果.所
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Hakuto 离
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蚀刻机 7 5IBE
上海伯东日本原装进口小型 Hakuto离
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蚀刻机7.5IBE, 适用于科研院所, 实验室研究, 干式制程的微细加工装置, 特别适用于磁性材料,
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上海伯东日本原装进口适合中等规模量产使用的 Hakuto离
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刻蚀机20IBE-C. 无论使用什么材料都可以用来加工.蚀刻均匀性: ±5%, 硅
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上海伯东日本原装进口适合大规模量产使用的 Hakuto离
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蚀刻机20IBE-J
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