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上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 3000 最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的无栅网离子源.
尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6“
放电电压 / 电流: 50-300V / 20A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
伯东 KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性：
1.水冷 - 加速冷却
2.可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
3.宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
4.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便
5.高效的等离子转换和稳定的功率控制
技术参数:
离子源型号
霍尔离子源
eH3000
Cathode/Neutralizer
HC
电压
50-250V
电流
20A
散射角度
>45
气体流量
5-100sccm
高度
6.0“
直径
9.7“
水冷
可选
F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
应用领域：
1. 溅镀和蒸发镀膜 PC
2. 辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD
3. 表面改性, 激活 SM
4. 直接沉积 DD
应用案例
1.伯东 KRI 霍尔离子源 EH400 HC用于离子刻蚀 IBE
2. KRI 霍尔离子源 EH 3000 HC用于辅助天文望远镜镜片镀膜
3. 伯东 KRI 霍尔离子源 EH 4200辅助镀膜 IBAD用于 PC 预清洁
4. KRI 考夫曼霍尔离子源辅助光学镀膜
5. 伯东 KRI 霍尔离子源 EH 5500辅助手机壳颜色镀膜
6. KRI 霍尔离子源 EH 3000HC成功应用于天文望远镜镜片离子辅助镀膜工艺IBAD
7. 伯东 KRI霍尔离子源在样品清洗前处理中的应用
eH3000LO
eH3000MO
50-300V
50-250V
10A
15A
可充气体
Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others