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上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 KDC75, 紧凑栅网离子源, 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射.
离子束流: >250 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝.
加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.
考夫曼离子源 KDC 75 包含2个阴极灯丝, 其中一个作为备用.
离子束直径 14 cm ,可安装在 8“CF法兰.
离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.
技术参数：
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离子源型号 |
离子源 KDC 75 |
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Discharge |
DC 热离子 |
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离子束流 |
>250 mA |
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离子动能 |
100-1200 V |
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栅极直径 |
7.5 cm Φ |
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离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
2-15 sccm |
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通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型压力 |
< 0.5m Torr |
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长度 |
20.1 cm |
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直径 |
14 cm |
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中和器 |
灯丝 |
* 可选: 一个阴极灯丝; 可调角度的支架
应用领域：
1.溅镀和蒸发镀膜 PC
2.辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
3.表面改性, 激活 SM
4.离子溅射沉积和多层结构 IBSD
5.离子蚀刻 IBE
应用案例:
1. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)
2. 伯东 KRI Gridded 考夫曼离子源用于离子束抛光工艺